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| Nombre De La Marca: | Non |
| Número De Modelo: | El LP |
| MOQ: | 1000 |
| Precio: | $1 |
| Nombre de producción | Filtro de paso de banda estrecho |
| Soporte personalizado | OEM, ODM |
| Lugar de origen | Porcelana |
| Número de modelo | NF |
| Revestimiento | Recubrimiento duro dieléctrico IAD, filtro combinado |
| Transmitancia máxima (Tp) | 95%, 90%, 85%, 80%, 70%, 60%, 50%, 40%, 30%, 20%, 10% |
| FWHM | 8 nm, 10 nm, 15 nm, 20 nm, 25 nm, 30 nm, 35 nm, 40 nm |
| Calidad superficial | 40-20 (S/D) |
| Apertura clara | >95% |
| sobredosis | OD2, OD3, OD4, OD5, OD6 |
| Espesor | 0,3 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1,0 mm, 1,1 mm, 2,0 mm, 3,0 mm, 4,0 mm |
| Rango de longitud de onda de corte | 200 nm-A Longitud de onda central-1100 nm |
| Pruebas ambientales | MIL-STD-810F |
| Material | K9, BK7, B270, D263T, vidrios coloreados, etc. |
| Redondo | φ3mm-φ110mm |
| Cuadrado | 2mm*2mm-146mm*146mm |
| Solicitud | CWL | tp | FWHM | Longitud de onda de bloqueo | Densidad óptica (DO) |
|---|---|---|---|---|---|
| paquete de semiconductores | 635 nm | 635±5nm@Te90% | 35±5nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-635-35 |
| Telémetro láser | 905nm | 905±5nm@T>90% | 20nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-905-20 |
| Escaneo de códigos de barras | 650nm | 650±8nm@T>90% | 50nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-650-50 |
| Reconocimiento de huellas dactilares | 530 nm | 530±3nm@T>90% | 25nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-530-25 |
| Identificación biométrica | 850nm | 850±3nm@T>80% | 20nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-850-20 |
| Fuente de luz de investigación criminal | 450 nm | 4503nm@T>80% | 20nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-550-20 |
| alineador de ruedas | 940 nm | 940±5nm@T>85% | 35nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-940-35 |
| pizarra electrónica | 808nm | 808±3nm@T>85% | 40nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-808-40 |
