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| Nome da marca: | Non |
| Número do modelo: | LP |
| MOQ: | 1000 |
| Preço: | $1 |
| Nome da produção | Filtro de banda estreita |
| Suporte personalizado | OEM, ODM |
| Local de origem | China |
| Número do modelo | NF |
| Revestimento | Revestimento duro dieléctrico IAD, filtro combinado |
| Transmissão máxima (Tp) | 95%, 90%, 85%, 80%, 70%, 60%, 50%, 40%, 30%, 20%, 10% |
| FWHM | 8nm, 10nm, 15nm, 20nm, 25nm, 30nm, 35nm, 40nm |
| Qualidade da superfície | 40-20 (S/D) |
| Abertura clara | > 95% |
| OD | OD2, OD3, OD4, OD5, OD6 |
| Espessura | 0.3mm, 0.55mm, 0.7mm, 1.0mm, 1.1mm, 2.0mm, 3.0mm, 4.0mm |
| Faixa de comprimento de onda de corte | 200 nm-A comprimento de onda central-1100 nm |
| Ensaios ambientais | A norma MIL-STD-810F |
| Materiais | K9, BK7, B270, D263T, vidro colorido, etc. |
| Rondas | φ3mm-φ110mm |
| Quadrado | 2 mm*2 mm-146 mm*146 mm |
| Aplicação | CWL | Não. | FWHM | Comprimento de onda de bloqueio | Densidade óptica (OD) |
|---|---|---|---|---|---|
| Pacote de semicondutores | 635 nm | 635±5nm@Te90% | 35 ± 5 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-635-35 |
| Distância-medidor a laser | 905 nm | 905±5 nm@T> 90% | 20 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-905-20 |
| Análise de código de barras | 650 nm | 650±8 nm@T>90% | 50 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-650-50 |
| Reconhecimento de impressões digitais | 530 nm | 530±3nm@T> 90% | 25 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-530-25 |
| Identificação biométrica | 850 nm | 850 ± 3 nm@T> 80% | 20 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-850-20 |
| Fonte de luz para investigação criminal | 450 nm | 4503nm@T> 80% | 20 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-550-20 |
| Alinhamento de rodas | 940 nm | 940±5 nm@T> 85% | 35 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-940-35 |
| Tabuleiro eletrónico | 808 nm | 808±3nm@T>85% | 40 nm | 350-1100nm@T<0,01% | GA-NBP-808-40 |
